ICP刻蚀系统
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收费标准
机时0.1元/小时送样详见检测项目 -
设备型号
Oxford ICP 100 system -
当前状态
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管理员
赵耀龙 16627528365 -
放置地点
河南大学校级平台纳米科学与材料工程学院-40万以上特功制备类设备-40万以上特功实验室（40万以上制备类）112-113室
- 仪器信息
- 检测项目
- 附件下载
- 公告
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名称
ICP刻蚀系统
资产编号
2015009924
型号
Oxford ICP 100 system
规格
Oxford ICP 100 system
产地
英国
厂家
Oxford Instruments牛津仪器
所属品牌
PlasmaPro System100
出产日期
2015-01-01
购买日期
2015-09-21
所属单位
特功制备类设备-40万以上
使用性质
科研
所属分类
样品前处理及制备设备
资产负责人
赵耀龙
联系电话
16627528365
联系邮箱
yaolongzhao@qq.com
放置地点
河南大学校级平台纳米科学与材料工程学院-40万以上特功制备类设备-40万以上特功实验室（40万以上制备类）112-113室
- 主要规格&技术指标
- 主要功能及特色
- 样本检测注意事项
- 设备使用相关说明
主要规格&技术指标
规格： System100ICP180，高深宽比电感耦合型等离子增强。
技术指标：
1.工艺气体：Cl，O2, SF6、Ar
2.样品尺寸：小于3英寸
3.RF功率： 0－ 600W可调
4.ICP功率： 0－3000W可调
5.基片温度：5℃至30℃可调
6.刻蚀材料：硅、ITO、高聚物
7.刻蚀精度：最小线宽30nm
8.深宽比： 30:1
技术指标：
1.工艺气体：Cl，O2, SF6、Ar
2.样品尺寸：小于3英寸
3.RF功率： 0－ 600W可调
4.ICP功率： 0－3000W可调
5.基片温度：5℃至30℃可调
6.刻蚀材料：硅、ITO、高聚物
7.刻蚀精度：最小线宽30nm
8.深宽比： 30:1
主要功能及特色
制备类设备
样本检测注意事项
非挥发固体薄膜
设备使用相关说明
0.1元/样
检测项目
附件下载
公告
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