• 名称反应离子刻蚀系统
• 资产编号11000443
• 型号Phanpom LT
• 规格Phanpom LT
• 产地美国
• 厂家Trion
• 所属品牌Trion
• 出产日期2011-05-01
• 购买日期2011-03-01
• 所属单位特功制备类设备-40万以上
• 使用性质科研
• 所属分类
• 联系人赵耀龙
• 联系电话16627528365
• 联系邮箱
• 放置地点特功实验室（40万以上制备类）112-113室

主要规格及技术指标

最大基片尺寸：300mm 2.最大功率：ICP-1000W，RIE-600W 3.气体种类：6种

主要功能及特色

可用于清洗基底表面，干法刻蚀制备模板，去除残胶以及改变基底表面粗糙度和亲疏水性

样本检测注意事项

1、试样按国家标准进行制样3、试样测试前按国家标准进行调试

设备使用相关说明(收费标准)

1、操作人员经培训后方可操作设备
2、严格按照说明书进行操作
3、按要求认真填写操作记录
4、收费标准0.1元/样品