反应离子刻蚀系统 (Phanpom LT)

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设备型号 :Phanpom LT

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联系人 :--

放置地点 :特种功能材料教育部重点实验室 > 特种功能材料教育部重点实验室(8号楼)112-113

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  • 名称反应离子刻蚀系统
  • 资产编号11000443
  • 型号Phanpom LT
  • 规格Phanpom LT
  • 产地美国
  • 厂家Trion
  • 所属品牌Trion
  • 出产日期
  • 购买日期
  • 所属单位特种功能材料教育部重点实验室
  • 使用性质科研
  • 所属分类
  • 联系人--
  • 联系电话
  • 联系邮箱123943206@qq.com
  • 放置地点特种功能材料教育部重点实验室(8号楼)112-113

主要规格及技术指标

最大基片尺寸:300mm 2.最大功率:ICP-1000W,RIE-600W 3.气体种类:6种

主要功能及特色

可用于清洗基底表面,干法刻蚀制备模板,去除残胶以及改变基底表面粗糙度和亲疏水性

样本检测注意事项

1、试样按国家标准进行制样3、试样测试前按国家标准进行调试

设备使用相关说明

1、操作人员经培训后方可操作设备
2、严格按照说明书进行操作
4、按要求认真填写操作记录
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