纳米微影压印系统(含压印模板) (NIL2.5)

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设备型号 :NIL2.5

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仪器管理员 :方岩

联系人 :方岩

放置地点 :特功制备类设备-40万以上 > 特功实验室(40万以上制备类)112-113室

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1元 / 样品

  • 名称纳米微影压印系统(含压印模板)
  • 资产编号09001913+2012001142
  • 型号NIL2.5
  • 规格NIL2.5
  • 产地瑞典
  • 厂家Obducat AB.
  • 所属品牌Obducat AB.
  • 出产日期
  • 购买日期2009-09-08
  • 所属单位特功制备类设备-40万以上
  • 使用性质科研
  • 所属分类
  • 联系人方岩
  • 联系电话
  • 联系邮箱fy@henu.edu.cn
  • 放置地点特功实验室(40万以上制备类)112-113室

主要规格及技术指标

1.适用基底:硅片/玻璃片/聚合物 2.压印尺寸:2.5英寸及以下 3.加热温度:250℃以下 4.压印压力:70bar以下 5.系统参数:功率2.5kVA,电压230VAC(±5%),频率50/60Hz ;6.模板尺寸2*2cm

主要功能及特色

拥有热压印和紫外压印两种模式,均可用于低成本、高效率制备均匀的大面积阵列结构

样本检测注意事项

1、试样按国家标准进行制样2、试样测试前按国家标准进行调试

设备使用相关说明(收费标准)

1、操作人员经培训后方可操作设备
2、严格按照说明书进行操作
3、按要求认真填写操作记录
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