高真空薄膜沉积仪 (FDJ650)

  • 1
    收藏者
  • 0
    使用者
  • 0
    总次数
  • 0
    总时长

设备型号 :FDJ650

当前状态 : |

负责人 :张玉娟

联系人 :--

放置地点 :纳米材料工程研究中心 > 纳米材料工程研究中心

IP地址 :

0元 / 小时

  • 名称高真空薄膜沉积仪
  • 资产编号7002552
  • 型号FDJ650
  • 规格
  • 产地
  • 厂家沈阳科友真空技术研究所
  • 所属品牌沈阳科友真空技术研究所
  • 出产日期
  • 购买日期2007-07-01
  • 所属单位纳米材料工程研究中心
  • 使用性质科研
  • 所属分类样品前处理及制备设备
  • 联系人--
  • 联系电话
  • 联系邮箱172186033@qq.com
  • 放置地点纳米材料工程研究中心

主要规格及技术指标

二、 主要技术性能:
1、真空抽气系统:
主沉积室:选用涡轮分子泵FB1200+机械泵2XZ-15机组抽气,并设置旁路抽气。
(1)极限真空:系统经24小时烘烤,连续抽气P≤6.6×10-5Pa
(2)抽速:系统由大气开始抽气在≤40分钟内,P≤6.6×10-4Pa
(3)系统漏率:用氦质谱检漏仪检漏漏率≤1×10-8Pa L/S
2、磁过滤弧源:
直流弧源,弯管900,弯管壁绕紫铜冷却水管,出口内径180㎜,靶直径Φ60㎜,带有聚焦磁场线圈,可加正负40V偏压,从弧源法兰处引入气体,沉积速率1μ m/h

主要功能及特色

可用于开发单层及多层功能膜——各种硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜、铁磁膜和磁性薄膜等

样本检测注意事项

不挥发性基底材料

设备使用相关说明

该设备系单室立式结构,采用一套涡轮分子泵机组抽气的高真空系统。在沉积室内具有磁过滤弧沉积、离子束溅射镀膜、离子束辅助沉积和中能离子束轰击功能。
正在加载预约资源……
正在加载检测项目……
正在加载评论……
正在加载附件下载……
正在加载公告……
正在加载同类设备……