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名称
高真空薄膜沉积仪
资产编号
型号
FDJ650
规格
产地
厂家
沈阳科友真空技术研究所
所属品牌
沈阳科友真空技术研究所
出产日期
购买日期
2007-07-01
所属单位
纳米材料工程研究中心
使用性质
科研
所属分类
资产负责人
--
联系电话
联系邮箱
172186033@qq.com
放置地点
- 主要规格&技术指标
- 主要功能及特色
- 样本检测注意事项
- 设备使用相关说明
主要规格&技术指标
二、 主要技术性能：
1、真空抽气系统：
主沉积室：选用涡轮分子泵FB1200+机械泵2XZ-15机组抽气，并设置旁路抽气。
（1）极限真空：系统经24小时烘烤，连续抽气P≤6.6×10-5Pa
（2）抽速：系统由大气开始抽气在≤40分钟内，P≤6.6×10-4Pa
（3）系统漏率：用氦质谱检漏仪检漏漏率≤1×10-8Pa L/S
2、磁过滤弧源：
直流弧源，弯管900，弯管壁绕紫铜冷却水管，出口内径180㎜，靶直径Φ60㎜，带有聚焦磁场线圈，可加正负40V偏压，从弧源法兰处引入气体，沉积速率1μ m/h
1、真空抽气系统：
主沉积室：选用涡轮分子泵FB1200+机械泵2XZ-15机组抽气，并设置旁路抽气。
（1）极限真空：系统经24小时烘烤，连续抽气P≤6.6×10-5Pa
（2）抽速：系统由大气开始抽气在≤40分钟内，P≤6.6×10-4Pa
（3）系统漏率：用氦质谱检漏仪检漏漏率≤1×10-8Pa L/S
2、磁过滤弧源：
直流弧源，弯管900，弯管壁绕紫铜冷却水管，出口内径180㎜，靶直径Φ60㎜，带有聚焦磁场线圈，可加正负40V偏压，从弧源法兰处引入气体，沉积速率1μ m/h
主要功能及特色
可用于开发单层及多层功能膜——各种硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜、铁磁膜和磁性薄膜等
样本检测注意事项
不挥发性基底材料
设备使用相关说明
该设备系单室立式结构，采用一套涡轮分子泵机组抽气的高真空系统。在沉积室内具有磁过滤弧沉积、离子束溅射镀膜、离子束辅助沉积和中能离子束轰击功能。
检测项目
附件下载
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