三靶材磁控溅射系统 (PVD 75)

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设备型号 :PVD 75

当前状态 : |

负责人 :程轲 0371-23881358

联系人 :胡俊霞 刘婧婧

放置地点 :特种功能材料教育部重点实验室 > 特种功能材料教育部重点实验室(8号楼)207

IP地址 :

0元 / 小时

  • 名称三靶材磁控溅射系统
  • 资产编号2014010143
  • 型号PVD 75
  • 规格PVD 75
  • 产地美国
  • 厂家科特莱思科
  • 所属品牌科特莱思科
  • 出产日期
  • 购买日期
  • 所属单位特种功能材料教育部重点实验室
  • 使用性质科研
  • 所属分类样品前处理及制备设备
  • 联系人胡俊霞 刘婧婧
  • 联系电话
  • 联系邮箱ck@henu.edu.cn
  • 放置地点特种功能材料教育部重点实验室(8号楼)207

主要规格及技术指标

*1. 镀膜工艺腔体:D型304不锈钢腔体;尺寸 360mm宽 x 360mm深 x 610mm 高;前开门设计;配有一个方形观察窗,观察窗配有放屏蔽板的插槽;配备用于安装真空泵、真空计以及其他仪器的接口,并配有空余的备用法兰口;配有气动充气阀,用于连接高纯氮气。
*2. 真空泵系统:前级泵采用抽速不低于5.7cfm油封式机械泵(德国普发品牌);主泵采用抽速≥260l/s的分子泵(德国普发品牌),有操作界面可调节分子泵转速;主泵和腔室之间带有三位门阀,具有全开、全闭和半开功能;系统的极限压强可达≤5x10-7Torr; 自动抽气控制,带安全互锁功能;配有前级管路(螺纹管、前级阀)硬件。
*3. 真空测量系统:主真空室配有KJLC品牌全量程真空计,测量范围为大气至10-10Torr;主真空室配有MKS电容式薄膜规,满量程为100 Torr,精度为度数的+/-0.25%;主泵和前级泵之间配有KJLC品牌粗真空计;真空计读数可在控制面板显示。
*4. 系统框架:采用全封闭式系统框架;设备整体外形尺寸不超过1200mm 宽 x 900mm 深 x 1910mm 高;集成总控电源,在设备框架上安装有紧急停车按钮。
*5. 磁控溅射系统:3台Torus溅射靶枪,靶材尺寸为3英寸,靶材厚度可达0.25英寸; 靶枪需要水冷,冷却水和磁钢不能直接接触;靶枪具有折弯功能,可以调节靶头与基片之间的溅射角度;每支靶枪带气动控制的靶枪挡板;靶枪最低工作压强为1mTorr;靶枪直接安装在真空室的底法兰上面。
*6. 溅射靶枪电源配置要求:一台功率600W的射频电源,频率为13.56MHz,全自动匹配,品牌为KJLC。射频电源输出功率测量精度为满量程或度数的1%,长时间输出的稳定性+/-0.5%;一台功率1000W的直流电源,品牌为KJLC;直流或射频电源电源转换器,最多可控制四个溅射靶枪。
*7. 样品台:基片背部石英灯烘烤加热,最高温度达350℃,PID控温,控温精度+/-0.1℃;加热方式采用电阻加热,并且装有两个热电偶用于安全保护;样品台带电机驱动实现连续旋转,最大转速可达20转/分钟;样品台配有气动水平基片挡板,基片尺寸不超过4英寸。
*8. 进气系统:两路质量流量计控制进气,最大流量为100sccm,通过电容式薄膜规压力设定自动调节进气量,质量流量控制器采用MKS品牌,精度为满量程1% ,最小可重复流量为0.2sccm。
*9. 电脑控制系统:基于Windows 操作系统的电脑的控制系统;配有标准的触摸屏和键盘,可通过触摸屏或者键盘进行设备操作;可真实显示下列系统参数:真空系统界面、沉积界面、运动界面、水冷界面、加热界面。
*10. 水冷系统:分子泵、靶枪等,截止阀开关各路冷却水路,设备配有必须的冷却水安全互锁设计;每个靶枪都要有独立的断水保护报警装置。
*11. 4”基片成膜均匀性:优于±5%
12. 一键式程序控制抽真空和放气。
13. 全套安全互锁功能。

主要功能及特色

薄膜制备

设备使用相关说明

60元每小时
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