三靶材磁控溅射系统
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收费标准
机时2元/小时送样详见检测项目 -
设备型号
PVD 75+75PRO-line升级 -
当前状态
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管理员
刘新胜 13937845488 -
放置地点
河南大学校级平台纳米科学与材料工程学院-40万以上特功制备类设备-40万以上特功实验室（40万以上制备类）207
- 仪器信息
- 检测项目
- 附件下载
- 公告
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名称
三靶材磁控溅射系统
资产编号
2014010143+TY2022006014
型号
PVD 75+75PRO-line升级
规格
PVD 75
产地
美国
厂家
科特莱思科
所属品牌
科特莱思科
出产日期
购买日期
2014-09-04
所属单位
特功制备类设备-40万以上
使用性质
科研
所属分类
样品前处理及制备设备
资产负责人
刘新胜
联系电话
13937845488
联系邮箱
放置地点
河南大学校级平台纳米科学与材料工程学院-40万以上特功制备类设备-40万以上特功实验室（40万以上制备类）207
- 主要规格&技术指标
- 主要功能及特色
- 样本检测注意事项
- 设备使用相关说明
主要规格&技术指标
1. 镀膜工艺腔体：D型304不锈钢腔体；尺寸 360mm宽 x 360mm深 x 610mm 高；前开门设计；配有一个方形观察窗，观察窗配有放屏蔽板的插槽；配备用于安装真空泵、真空计以及其他仪器的接口，并配有空余的备用法兰口；配有气动充气阀，用于连接高纯氮气。
2. 真空泵系统：前级泵采用抽速不低于5.7cfm油封式机械泵（德国普发品牌）；主泵采用抽速≥260l/s的分子泵（德国普发品牌），有操作界面可调节分子泵转速；主泵和腔室之间带有三位门阀，具有全开、全闭和半开功能；系统的极限压强可达≤5x10-7Torr； 自动抽气控制，带安全互锁功能；配有前级管路（螺纹管、前级阀）硬件。
3. 真空测量系统：主真空室配有KJLC品牌全量程真空计，测量范围为大气至10-10Torr；主真空室配有MKS电容式薄膜规，满量程为100 Torr，精度为度数的+/-0.25%；主泵和前级泵之间配有KJLC品牌粗真空计；真空计读数可在控制面板显示。
4. 系统框架：采用全封闭式系统框架；设备整体外形尺寸不超过1200mm 宽 x 900mm 深 x 1910mm 高；集成总控电源，在设备框架上安装有紧急停车按钮。
5. 磁控溅射系统：3台Torus溅射靶枪，靶材尺寸为3英寸，靶材厚度可达0.25英寸； 靶枪需要水冷，冷却水和磁钢不能直接接触；靶枪具有折弯功能，可以调节靶头与基片之间的溅射角度；每支靶枪带气动控制的靶枪挡板；靶枪最低工作压强为1mTorr；靶枪直接安装在真空室的底法兰上面。
6. 溅射靶枪电源配置要求：一台功率600W的射频电源，频率为13.56MHz，全自动匹配，品牌为KJLC。射频电源输出功率测量精度为满量程或度数的1%，长时间输出的稳定性+/-0.5%；一台功率1000W的直流电源，品牌为KJLC；直流或射频电源电源转换器，最多可控制四个溅射靶枪。
7. 样品台：基片背部石英灯烘烤加热，最高温度达350℃，PID控温，控温精度+/-0.1℃；加热方式采用电阻加热，并且装有两个热电偶用于安全保护；样品台带电机驱动实现连续旋转，最大转速可达20转/分钟；样品台配有气动水平基片挡板，基片尺寸不超过4英寸。
8. 进气系统：两路质量流量计控制进气，最大流量为100sccm，通过电容式薄膜规压力设定自动调节进气量，质量流量控制器采用MKS品牌，精度为满量程1% ，最小可重复流量为0.2sccm。
9. 电脑控制系统：基于Windows 操作系统的电脑的控制系统；配有标准的触摸屏和键盘，可通过触摸屏或者键盘进行设备操作；可真实显示下列系统参数：真空系统界面、沉积界面、运动界面、水冷界面、加热界面。
10. 水冷系统：分子泵、靶枪等，截止阀开关各路冷却水路，设备配有必须的冷却水安全互锁设计；每个靶枪都要有独立的断水保护报警装置。
11. 4”基片成膜均匀性：优于±5%
12. 一键式程序控制抽真空和放气。
13. 全套安全互锁功能。
2. 真空泵系统：前级泵采用抽速不低于5.7cfm油封式机械泵（德国普发品牌）；主泵采用抽速≥260l/s的分子泵（德国普发品牌），有操作界面可调节分子泵转速；主泵和腔室之间带有三位门阀，具有全开、全闭和半开功能；系统的极限压强可达≤5x10-7Torr； 自动抽气控制，带安全互锁功能；配有前级管路（螺纹管、前级阀）硬件。
3. 真空测量系统：主真空室配有KJLC品牌全量程真空计，测量范围为大气至10-10Torr；主真空室配有MKS电容式薄膜规，满量程为100 Torr，精度为度数的+/-0.25%；主泵和前级泵之间配有KJLC品牌粗真空计；真空计读数可在控制面板显示。
4. 系统框架：采用全封闭式系统框架；设备整体外形尺寸不超过1200mm 宽 x 900mm 深 x 1910mm 高；集成总控电源，在设备框架上安装有紧急停车按钮。
5. 磁控溅射系统：3台Torus溅射靶枪，靶材尺寸为3英寸，靶材厚度可达0.25英寸； 靶枪需要水冷，冷却水和磁钢不能直接接触；靶枪具有折弯功能，可以调节靶头与基片之间的溅射角度；每支靶枪带气动控制的靶枪挡板；靶枪最低工作压强为1mTorr；靶枪直接安装在真空室的底法兰上面。
6. 溅射靶枪电源配置要求：一台功率600W的射频电源，频率为13.56MHz，全自动匹配，品牌为KJLC。射频电源输出功率测量精度为满量程或度数的1%，长时间输出的稳定性+/-0.5%；一台功率1000W的直流电源，品牌为KJLC；直流或射频电源电源转换器，最多可控制四个溅射靶枪。
7. 样品台：基片背部石英灯烘烤加热，最高温度达350℃，PID控温，控温精度+/-0.1℃；加热方式采用电阻加热，并且装有两个热电偶用于安全保护；样品台带电机驱动实现连续旋转，最大转速可达20转/分钟；样品台配有气动水平基片挡板，基片尺寸不超过4英寸。
8. 进气系统：两路质量流量计控制进气，最大流量为100sccm，通过电容式薄膜规压力设定自动调节进气量，质量流量控制器采用MKS品牌，精度为满量程1% ，最小可重复流量为0.2sccm。
9. 电脑控制系统：基于Windows 操作系统的电脑的控制系统；配有标准的触摸屏和键盘，可通过触摸屏或者键盘进行设备操作；可真实显示下列系统参数：真空系统界面、沉积界面、运动界面、水冷界面、加热界面。
10. 水冷系统：分子泵、靶枪等，截止阀开关各路冷却水路，设备配有必须的冷却水安全互锁设计；每个靶枪都要有独立的断水保护报警装置。
11. 4”基片成膜均匀性：优于±5%
12. 一键式程序控制抽真空和放气。
13. 全套安全互锁功能。
主要功能及特色
薄膜制备
样本检测注意事项
薄膜制备类设备，具体请与仪器管理员联系
设备使用相关说明
2元每小时
检测项目
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公告
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