高真空四靶材磁控溅射系统
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收费标准
机时1元/小时送样详见检测项目 -
设备型号
JGP 450 -
当前状态
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管理员
刘新胜 -
放置地点
河南大学校级平台纳米科学与材料工程学院-40万以上特功制备类设备-40万以上特功实验室（40万以上制备类）207
- 仪器信息
- 检测项目
- 附件下载
- 公告
- 同类仪器
名称
高真空四靶材磁控溅射系统
资产编号
2014004998
型号
JGP 450
规格
JGP 450
产地
中国
厂家
中科院沈阳科仪
所属品牌
沈阳科仪
出产日期
购买日期
2014-07-01
所属单位
特功制备类设备-40万以上
使用性质
科研
所属分类
样品前处理及制备设备
资产负责人
刘新胜
联系电话
联系邮箱
ck@henu.edu.cn
放置地点
河南大学校级平台纳米科学与材料工程学院-40万以上特功制备类设备-40万以上特功实验室（40万以上制备类）207
- 主要规格&技术指标
- 主要功能及特色
- 样本检测注意事项
- 设备使用相关说明
主要规格&技术指标
*1. 4支直径为3英寸圆形平面磁控溅射靶（永磁靶3支，铁磁靶1支；进口Kurt. J. Lesker）。
*2. 腔室极限真空度2×10-5Pa（分子泵：抽气速率600L/S，北京中科院仪器公司：KYKY；机械泵：抽气速率8L/s，爱发科）。
*3. 采用CF150高真空电动闸板阀1台。
*4. 从大气环境到工作背景真空5X10-4Pa时间≤30分钟。
*5.设备密封性：停泵关机12小时后真空度不高于8Pa。
*6. 膜厚均匀度小于3%。
*7. 基片加热可到500度，公转速度2-20转/分，可控可调。
*8. 靶材利用率不小于40%。
*9. 两套600W射频电源，两套1000W直流溅射电源。
*10. 质量流量控制器两套(100sccm和200sccm各一套)。
11. 数字式智能流量控制仪，可与电脑连网形成全自动闭环控制，一带四。
12. 缺水欠压检测与保护、380VAC相序检测与保护、真空检测与保护、温度检测与保护。
13.计算机+PLC可编程控制系统1套。
14. 腔室部分：圆柱型、上开盖、前开门，真空专用不锈钢(奥氏体)；前开门机构一套；预留2套备用法兰口，用于设备的功能扩展；
*2. 腔室极限真空度2×10-5Pa（分子泵：抽气速率600L/S，北京中科院仪器公司：KYKY；机械泵：抽气速率8L/s，爱发科）。
*3. 采用CF150高真空电动闸板阀1台。
*4. 从大气环境到工作背景真空5X10-4Pa时间≤30分钟。
*5.设备密封性：停泵关机12小时后真空度不高于8Pa。
*6. 膜厚均匀度小于3%。
*7. 基片加热可到500度，公转速度2-20转/分，可控可调。
*8. 靶材利用率不小于40%。
*9. 两套600W射频电源，两套1000W直流溅射电源。
*10. 质量流量控制器两套(100sccm和200sccm各一套)。
11. 数字式智能流量控制仪，可与电脑连网形成全自动闭环控制，一带四。
12. 缺水欠压检测与保护、380VAC相序检测与保护、真空检测与保护、温度检测与保护。
13.计算机+PLC可编程控制系统1套。
14. 腔室部分：圆柱型、上开盖、前开门，真空专用不锈钢(奥氏体)；前开门机构一套；预留2套备用法兰口，用于设备的功能扩展；
主要功能及特色
薄膜制备
样本检测注意事项
本设备为样品制备类仪器
设备使用相关说明
1元每小时
检测项目
附件下载
公告
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