高真空四靶材磁控溅射系统

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设备型号 :

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负责人 :程轲 0371-23881358

联系人 :韩凯凯

放置地点 :特种功能材料教育部重点实验室 > 特种功能材料教育部重点实验室(8号楼)207

IP地址 :

0元 / 小时

  • 名称高真空四靶材磁控溅射系统
  • 资产编号2014004998
  • 型号
  • 规格JGP 450
  • 产地
  • 厂家
  • 所属品牌
  • 出产日期
  • 购买日期
  • 所属单位特种功能材料教育部重点实验室
  • 使用性质科研
  • 所属分类样品前处理及制备设备
  • 联系人韩凯凯
  • 联系电话
  • 联系邮箱ck@henu.edu.cn
  • 放置地点特种功能材料教育部重点实验室(8号楼)207

主要规格及技术指标

*1. 4支直径为3英寸圆形平面磁控溅射靶(永磁靶3支,铁磁靶1支;进口Kurt. J. Lesker)。
*2. 腔室极限真空度2×10-5Pa(分子泵:抽气速率600L/S,北京中科院仪器公司:KYKY;机械泵:抽气速率8L/s,爱发科)。
*3. 采用CF150高真空电动闸板阀1台。
*4. 从大气环境到工作背景真空5X10-4Pa时间≤30分钟。
*5.设备密封性:停泵关机12小时后真空度不高于8Pa。
*6. 膜厚均匀度小于3%。
*7. 基片加热可到500度,公转速度2-20转/分,可控可调。
*8. 靶材利用率不小于40%。
*9. 两套600W射频电源,两套1000W直流溅射电源。
*10. 质量流量控制器两套(100sccm和200sccm各一套)。
11. 数字式智能流量控制仪,可与电脑连网形成全自动闭环控制,一带四。
12. 缺水欠压检测与保护、380VAC相序检测与保护、真空检测与保护、温度检测与保护。
13.计算机+PLC可编程控制系统1套。
14. 腔室部分:圆柱型、上开盖、前开门,真空专用不锈钢(奥氏体);前开门机构一套;预留2套备用法兰口,用于设备的功能扩展;

主要功能及特色

薄膜制备

设备使用相关说明

50元每小时
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